離子鍍
1.定義
蒸發物質(zhì)的分子被電子碰撞(zhuàng)電離後以離子沉積在固體表麵,稱為離子鍍(dù)。離子鍍是真(zhēn)空蒸(zhēng)發與陰極濺射技術的結合。一種離(lí)子鍍係統如(rú)圖4[離子鍍係統示意圖]
2.原理
蒸發源接陽極,工件接陰極,當通以三至五千伏高壓直流電以後,蒸發源與工件之間產生輝光放電。由於真空罩內充(chōng)有惰性(xìng)氬氣,在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被(bèi)電離,從而在(zài)陰極工件周圍(wéi)形成一等離子暗區。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表麵,致使工件表層粒子和(hé)髒物被轟濺拋出,從(cóng)而使工件(jiàn)待鍍表麵得到了充分的離子轟擊清洗。隨後,接(jiē)通(tōng)蒸發(fā)源交流電源,蒸發料(liào)粒子熔化(huà)蒸發,進入輝光放電區並被電離。帶正(zhèng)電(diàn)荷的蒸發料離子,在陰極(jí)吸引下,隨同(tóng)氬離子一同衝向工件,當拋鍍於工件表麵上的蒸發料離(lí)子超過濺失離子的數量時,則逐漸堆積(jī)形成一層牢固粘附於工(gōng)件表(biǎo)麵的鍍層。
3.分(fèn)類
① 磁控濺射離子鍍
② 反應離子鍍
③ 空心陰極放電離子鍍
④ 多弧(hú)離子鍍。
微(wēi)信(xìn)公眾號(hào)
移動端瀏覽