真空（kōng）鍍（dù）膜為什麽要用到冷（lěng）卻（què）水

為什（shí）麽也要（yào）用水冷卻？

主要是圓柱靶（bǎ）。磁控濺射靶在發射時會產生（shēng）高溫會使射槍變形（xíng），所（suǒ）以它（tā）有一個水套來冷卻射槍。同時還（hái）有一個重要原因磁控（kòng）濺射可以被（bèi）認為是（shì）鍍膜（mó）技術中zui突出的（de）成就之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜基結合力好。
   從更（gèng）深層次研究電子在非（fēi）均勻（yún）電磁場中的運動規律（lǜ） , 探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場的橫向不均勻性及對（duì）稱性（xìng）是磁約束（shù）的本（běn）質原因。磁控濺射可以被認（rèn）為是（shì）鍍膜技術中zui突出的成就之一。它以濺射率高、基片溫升（shēng）低（dī）、膜基結合力好、裝（zhuāng）置性能穩定。

     真空冷水機廣泛應用於工業製冷，它能提供恒流、恒溫、恒壓，控製真空電鍍設備的溫度，不同工藝流（liú）程需要控製不同的溫度，真空電鍍設（shè）備（bèi）中冷水機可以分（fèn）為風冷式的冷水機和水冷式的冷水機，水冷式冷水機達到好的冷卻效果加冷卻水塔，風冷（lěng）式冷水機對工作（zuò）環境有（yǒu）要求，它通過熱風循環（huán）製冷（lěng），通風效果的（de）好壞直接影響到冷水機的製（zhì）冷效果。